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掩模版
掩模版
所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版,是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形(Mask Pattern),并通过曝光将图形转印到产品基板之上。
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商品详情

掩模版的主要应用于以下领域:
IC(Integrated Circuit,集成电路)
尤其是LSI(Large Scale IC,大规模集成电路)包括Wafer制程及IC Bumping等
FPD(Flat Panel Display,平板显示器)包括PDP、LCD、LED、OLED等
PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)
MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)

技术规格

Material Size Flatness(um) Parallelism(um)
L*W(mm) Tolerance(mm) Thickness(mm) Front Back
Soda/Fused Silica 3006(76*76) ±0.2 1.5±0.1 <5 <5 <5
Soda/Fused Silica 4006(101.4*101.4) ±0.2  
1.5±0.1
<5 <5 <5
Soda/Fused Silica 4009(101.4*101.4) ±0.2 2.3±0.1 <5 <5 <5
Soda/Fused Silica 5006(127*127) ±0.2 1.5±0.1 <5 <5 <5
Soda/Fused Silica 5009(127*127) ±0.2 2.3±0.1 <5 <5 <5
Soda/Fused Silica 6009(152*152) ±0.2 2.3±0.1 <10 <10 <10
Soda/Fused Silica 6025(152*152) ±0.2 6.35±0.1 <10 <10 <10
Soda/Fused Silica 7009(177.6*177.6) ±0.2 2.3±0.1 <10 <10 <10
Soda/Fused Silica 7012(177.6*177.6) ±0.2 3.05±0.1 <10 <10 <10
Soda/Fused Silica 8012(203*203) ±0.2 3.05±0.1 <10 <10 <10
Soda/Fused Silica 9012(228.6*228.6) ±0.2 3.05±0.1 <10 <10 <10

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